应用于：
半导体晶元光刻和高精度PCB板曝光等。以高压短弧球形汞灯作为光源，采用了柱体蝇眼透镜和高能力集光的椭球反射镜及抛物反射镜等光学镜组形成面光源，实现波长365nm的紫外光（i线为主），光束垂直照射于半导体光刻机掩膜板进行芯片光曝光，光能利用率高，光强分布均匀。
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